刚刚入门半导体行业,对于中英文夹杂的相同方式,还不顺应。可是没法子,为了工作,只能听到一个,就记下来一个,这里临时不分类,今后都懂了,再整理。 1.Lot:批号,晶元以25Pcs为单元装在一个晶盒里,这25片晶元组成的批就是Lot,会用一个唯一ID标识。 2.Box:晶元盒。网上查了,似乎还有其他叫法,归正老员工告诉我,我们就是叫Box,我就姑且这样记下来。也有叫foup的,前开式晶圆盒。 3.Cassette:晶舟,晶元一片一片不成能间接放进盒子,要有一个架子,一片一片塞进架子,再把全部架子放进晶元盒内,这个架子就叫Cassette。Cassette,分为公用和流转,公用是在某个制程利用,要加工时,需要把晶元装到公用Cassette才答应在本制程加工。 4.PR:光刻胶,曝光之前要覆胶,就是光刻胶。光刻胶要管控,比如温度要在常温下(原材料要放冰箱),换批主要清洗管道,过保质期不能利用等。这些需要MES来治理。 5.reticle:光罩,就是曝光时辰的掩模板,这和工艺有关,上面的图像要复印到光刻胶上,为后续显影做预备。光罩也要管控,有按时清洗,检查的要求,也有益用次数的管控,也是MES要具有的功用。 6.一些通用工艺:ox是氧化;tf是薄膜,薄膜空气pvd和cvd两种;photo是黄光,匀胶,曝光,显影这些都属于黄光;et,刻蚀,就是用化学或等离子把不要的部分去掉。wat,电性检测,比如电阻值,电容,电压这些的丈量。 6/4新增: 7.衬底:从供给商来的原材料,一般叫衬底,按照材料分歧会分为Si衬底,SiC衬底,GaN衬底,前面两个是化合物半导体,也就是所谓的宽禁带半导体,第三代半导体。第三代半导体并不是一个品级的迭代,只是用处上的差别,只在特定场景会有部分取代关系,比如需要高转化率的场景,如充电器,要交换转直流,高压转高压。 电阻率:除材料外,还关心一个参数,就是电阻率。投片时辰也要出格留意。 PN:料号,分歧供给商,分歧材料参数的衬底会有分歧的料号。 8.投片:原材料从仓库发产线,投产就叫投片。 9.刻号:LaserMarking,激光打标,就是在每个衬底上打一个唯一ID,用于后续追溯。 10.导片器:半导体加工,投料进机台,凡是是把cassette放进去,装备自动从cassette取片生产。由于装备料口差别,很多工站都有本工站的公用cassette,是以就要把电影从流转的cassette导到公用cassette里面,这个进程用到的工具就叫导片器。 11.吸笔:假如要看其中一个电影,不成妙手拿,要用吸笔去吸。 12.Particle:微粒,行业内管粉尘叫半导体杀手。 13.干净室:所以就要在无尘室里面熟产。凡是要百级以下,要求高的甚至更低,比如10级。(品级分别标准是:立方米空间最大答应大于某粒径颗粒物的数目浓度) 14:岗位:CE:负责对接客户的工程师、TD产物研发部分(PIE:制程整合工程师,类似产物司理一样,PE:工艺工程师,简称工艺)EE:装备工程师,简称装备;还有PP:生产计划,IE:产业工程师,厂务工程师,MFG:制造部。YE:品格工程师。 15.Recipe:菜单或配方,就是装备的参数集。比如一台PVD装备,要做镀膜。你要界说好,里面有多个腔体是只走一个还是都走,要多久等等,这些参数,会绑定一个id,就构成一个recipe。 |
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